Exposición ocupacional a

Nanopartículas

  • 28 de noviembre de 2024, 12:30h.
  • ESTCE (UJI) - Aula TD1203
  • Presencial: requiere inscripción (gratuita)
28 nov

2024

Resumen

La evaluación de la exposición ocupacional a nanopartículas en entornos industriales es un reto generalizado debido a la diversidad de fuentes de emisión de nanopartículas (NPs) que pueden llegar a identificarse en el interior de plantas industriales, las cuales se asocian principalmente a la manipulación y síntesis de nanomateriales (NMNs) y a la generación de NPs en procesos altamente energéticos (PGNPs). Si bien los primeros están diseñados y fabricados intencionadamente para fines específicos, las segundas se generan y emiten involuntariamente en el ambiente interior del lugar de trabajo durante la ejecución de determinados procesos altamente energéticos, tanto térmicos como mecánicos: procesos de pulverización térmica (HVOF, plasma), cocción, soldadura, combustión de motores, operaciones de corte y lijado, corte por plasma y láser, etc.

Estos procesos industriales se pueden definir como generadores permanentes de PGNPs (pueden llegar a emitir hasta varios millones de NPs/cm3) y pueden conducir a exposiciones crónicas si estas fuentes no se reconocen como tales y si se omiten o no se diseñan adecuadamente las medidas de control.

Ponente

Tica Sanfélix, Área de sostenibilidad en el Instituto de Tecnología Cerámica (ITC).

Doctora en Ingeniería Química por la Universitat Jaume I. Desde 2006, miembro del Instituto de Tecnología Cerámica donde ha llevado a cabo su actividad investigadora. Su línea de investigación se centra en la caracterización física, química, morfológica y toxicológica del material particulado, desde la fracción micro a nano, asociado a procesos industriales y su impacto sobre la calidad del aire, así como a la evaluacion ocupacional a este contaminante.

Información e inscripciones

El seminario se incluye en el Grado en Ingeniería Quimica de la UJI. La inscripción será abierta para otros estudiantes y público en general mediante inscripción previa (aforo limitado).

Contenido